发表于：2011/10/13 9:21:59
#0楼
光学基片镀胶之前，其表面必须进行清洁处理，清除表面污染物和吸附物质。表面清洗可以用溶剂清洗超声清洗和离子处理等方法完成。应考虑基片的性质、镀膜工艺和薄膜的使用条件等因素、选择和组合适当的清洗方法、图2所示是光学玻璃基片镀膜前采川的工业清洗流程。清洗后表面的洁净度可用痕法、雾化试验或暗场观察等简单方法进行判别。
![附件]()
图2 光学玻璃基片镀膜前的工业清洗流程
来源--中国仪器仪表网www.china-1718.com
来源--中国仪器仪表网www.china-1718.com
中仪展——中国仪器仪表展览网
